重庆碱性抛光液生产工艺

依据机械加工原理、半导体材料工程学、物力化学多相反应多相催化理论、表面工程学、半导体化学基础理论等，对硅单晶片化学机械抛光（CMP）机理、动力学控制过程和影响因素研究标明，化学机械抛光是一个复杂的多相反应，它存在着两个动力学过程：

（1）抛光首先使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表面的硅原子在表面进行氧化还原的动力学过程。这是化学反应的主体。

（2）抛光表面反应物脱离硅单晶表面，即解吸过程使未反应的硅单晶重新裸露出来的动力学过程。它是控制抛光速率的另一个重要过程。

硅片的化学机械抛光过程是以化学反应为主的机械抛光过程，要获得质量好的抛光片，必须使抛光过程中的化学腐蚀作用与机械磨削作用达到一种平衡。如果化学腐蚀作用大于机械抛光作用，则抛光片表面产生腐蚀坑、桔皮状波纹。如果机械磨削作用大于化学腐蚀作用，则表面产生高损伤层。 本公司销售的纳米抛光液应用范围：单晶、红宝石、蓝宝石、白宝石、钇铝石榴石。重庆碱性抛光液生产工艺

化学机械抛光液 

1、化学机械抛光液概念  化学机械抛光液是在利用化学机械抛光技术对半导体材料进行加工过程中的一种研磨液体，由于抛光液是CMP的关键要素之一，它的性能直接影响抛 光后表面的质量，因此它也成为半导体制造中的重要的、必不缺少的辅助材料。  

2、化学机械抛光液的组成  化学机械抛光液的组成一般包括一般由超细固体粒子研磨剂（如纳米SiO2、Al2O3粒子等）、表面活性剂、稳定剂、氧化剂等。固体粒子提供研磨作用,化学氧化剂提供腐蚀溶解作用，由于SiO2粒子去除率比较高,得到的表面质量比较好，因此在硅片抛光加工中主要采用SiO2抛光液，  

3、化学机械抛光液的分类  抛光工艺中有粗抛光和精抛光之分，故有粗抛光液和精抛光液品种之分。  

4、CMP过程中对抛光液性能的要求  抛光液的浓度、磨粒的种类、大小、形状及浓度、抛光液的粘度、pH值、流速、流动途径对去除速度都有影响。 重庆碱性抛光液生产工艺抛光液具有良好的去油污，防锈，清洗和增光性能，并能使金属制品显露出真实的金属光泽。

氧化铝抛光液的酸碱度就是抛光液的pH值，当抛光液的pH值为9.6时，抛光液的机械作用远大于化学作用，去除速率比较大，导致抛光后抛光片表面产生高损伤层，粗糙度比较大。

当抛光液的pH值增大为10.84～11.34时，机械作用和化学作用达到一种对等状态时，此时化学作用的均匀性好，使得表面张力小，质量处理的一致性好，可以得到良好的表面抛光效果。

当pH值大于11.67时，SiO2水溶胶在强碱的作用下，生成易溶于水的硅酸氨，使得硅溶胶中的SiO2颗粒不能起到磨削作用，变成透明的液体，此时机械作用基本失效，抛光以化学作用为主，表面蚀坑增多，使得表面粗糙度重新增加。

氧化铝抛光液

产品描述：  

该产品采用硅改性刚玉为主要原料，在严格控制粒径、改善粒子表面特性和利用化学增强抛光原理的基础上所开发的适合合金基材稳定抛光的一款新产品；该产品悬浮体系稳定，被抛光工件表面稳定，粗糙度低，进而***提升产品表面质量，降低总体生产成本。与传统抛光粉相比，抛光液使用简便、抛光表面易清洗、无抛光设备腐蚀、在抛光机以及抛光垫上无沉积，广泛应用于各类不锈钢、铝合金基材的抛光。   

产品特点：  

l 颗粒分散均匀，不团聚，有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺点；

l 颗粒粒径分布适中，很大程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率，可以提高抛光精度，

l 运用抛光过程中的化学新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的质量；

l 低VOC配方，使用过程避免粉尘产生，关注环保和人体健康安全 多晶金刚石 抛光液适用于光学晶体、陶瓷、超硬合金等各种硬质材料的研磨和 抛光。

蓝宝石研磨液  

蓝宝石研磨液（又称为蓝宝石抛光液）是用于在蓝宝石衬底的研磨和减薄的研磨液。  蓝宝石研磨液由质量聚晶金刚石微粉、复合分散剂和分散介质组成。    

蓝宝石研磨液利用聚晶金刚石的特性，在研磨抛光过程中保持高切削效率的同时不易对工件产生划伤。可以应用在蓝宝石衬底的研磨和减薄、光学晶体、硬质玻璃和晶体、超硬陶瓷和合金、磁头、硬盘、芯片等领域的研磨和抛光。

蓝宝石研磨液在蓝宝石衬底方面的应用：  

 1. 外延片生产前衬底的双面研磨：多用蓝宝石研磨液研磨一道或多道，根据**终蓝宝石衬底研磨要求用6um、3um、1um不等。 

 2. LED芯片背面减薄   为解决蓝宝石的散热问题，需要将蓝宝石衬底的厚度减薄，从450nm左右减至100nm左右。主要有两步：先在横向减薄机上，用50-70um的砂轮研磨磨去300um左右的厚度；再用抛光机（秀和、NTS、WEC等）针对不同的研磨盘（锡/铜盘），采用合适的蓝宝石研磨液（水/油性）对芯片背面抛光，从150nm减至100nm左右。 氧化铈抛光液用于高精密光学仪器，光学镜头，微晶玻璃基板，晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。河北氧化硅陶瓷抛光液

本公司销售的纳米抛光液应用范围：精密抛光材料、玻璃制品、金属制品、半导体材料、塑料、磁带、打磨带。重庆碱性抛光液生产工艺

玻璃抛光液

一、玻璃抛光液技术参数  

1、玻璃抛光液中心粒径 d50：1um-1.5um  

2、玻璃抛光液PH 值：7  

二、玻璃抛光液适用范围：  玻璃抛光液***适用于精密光学器件、硬盘基片、液晶屏幕显示器等，高精密度光学玻璃抛光.光学镜头、光纤连接器、微晶玻璃基板、晶体表面等方面的精密抛光。  

三、玻璃抛光液使用方法：  原液使用、添加到储液槽，建议抛光浓度：温度（约100～150克/升：20～35℃） 四、玻璃抛光液保质期：  常温储存（25 ℃），两年。  

五、玻璃抛光液包装规格：  25KG/桶。  

六、玻璃抛光液注意事项：  

1、此说明所述技术性能及应用方法*供专业人士参考，而并非对使用效果之承诺.凡新使用产品及改变工艺,须先做严格的可行性测试，以求比较好使用效果；  

2、不用时请将容器封好，避免儿童接触；不慎溅入眼内，请用清水冲洗或到医院检查。 重庆碱性抛光液生产工艺

苏州豪麦瑞材料科技有限公司创建于2014-04-24，注册资金 50-100万元，是一家专注苏州豪麦瑞材料科技有限公司（Homray Material Company）成立于2014年，是由一群在半导体行业从业多年的专业团队所组成，专注于半导体技术和资源的发展与整合，现以进口碳化硅晶圆，供应切割、研磨及抛光等相关制程的材料与加工设备，氧化铝研磨球，氧化锆研磨球，陶瓷研磨球，陶瓷精加工，抛光液。的公司。公司目前拥有高技术人才5~10人人，以不断增强企业核心竞争力，加快企业技术创新，实现稳健生产经营。公司以诚信为本，业务领域涵盖[ "陶瓷研磨球", "碳化硅", "陶瓷精加工", "抛光液" ]，我们本着对客户负责，对员工负责，更是对公司发展负责的态度，争取做到让每位客户满意。公司凭着雄厚的技术力量、饱满的工作态度、扎实的工作作风、良好的职业道德，树立了优良的[ "陶瓷研磨球", "碳化硅", "陶瓷精加工", "抛光液" ]形象，赢得了社会各界的信任和认可。